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本文目录一览：
- 1、椭偏仪是测什么的
椭偏仪是测什么的
1、半导体芯片制造中常用的薄膜厚度测量方法主要有三种：四探针法、椭偏仪和X射线荧光光谱法。四探针法：原理：采用四个等距探针接触样品，通过外部探针提供电流，内部探针测量电压降，从而计算出薄膜方块电阻率，再通过特定公式反推出薄膜厚度。适用范围：此方法适用于测量不透明导电膜的厚度。
2、反射式膜厚测量仪：一般是利用白光干涉的原理，通过测量光波经样品反射后幅值（或者说光强）的变化来获得膜层的厚度d、折射率n和消光系数k信息。二者适用范围不同：椭偏仪适合：厚度为0.1nm到几微米的薄膜测量，其厚度测量精度可达到原子层量级，即0.1nm以下。
3、利用椭偏仪测量薄膜厚度与折射率时，对角度的要求主要基于光学原理及仪器特性的限制。首先，椭偏仪的工作原理是通过测量光在不同角度入射时薄膜上产生的偏振光变化，从而计算出薄膜的光学性质，包括厚度和折射率。对于薄膜厚度的测量，椭偏仪能够提供一定的准确性，但纳米级薄膜的测量存在一定的挑战。
4、椭偏仪测薄膜厚度的基本原理如下：椭偏仪通过使用一系列的偏振器和相位板，改变入射光的偏振态，如线偏振或椭圆偏振，在通过薄膜后，根据薄膜对入射光偏振态的影响，可得到反射光和透射光的偏振态。
5、四探针法是一种测量薄膜方块电阻率的技术。此方法采用四个等距探针接触样品，两个外部探针提供电流，两个内部探针测量电压降，从而计算出薄膜方块电阻率。通过特定公式反推，即可得到薄膜厚度。此方法适用于测量不透明导电膜的厚度。椭偏仪是一种非接触、非破坏性光学测量技术。
6、四探针法，又称四点共线探针法，是一种用于测量薄膜方块电阻率的技术。通过四点共线探针，可以获取材料的方块电阻率。根据方块电阻率和测量的电压、电流数据，通过特定公式反推，能计算出薄膜厚度。这种方法主要用于测量不透明导电膜的厚度。
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